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第27章 Full Mask和MPW（3 / 3）
> 第二种MPW，多项目晶圆的意思，允许多个项目共享同一个晶圆，使得同一次制造流程能够处理多个IC设计。这种方式可以将多个采用相同工艺的集成电路设计合并至同一晶圆上进行流片。